Przejdź do informacji o produkcie

Advanced Ta-Based Diffusion Barriers for Cu Interconnects

Rene Hubner

Cena regularna 219,00 zł
Cena sprzedaży 219,00 zł Cena regularna 228,00 zł Sprzedaż

Mamy to na stanie

Prekės šiuo metu neturime
Palikite el. paštą ir pranešime iškart, kai prekė vėl atsiras sandėlyje.
Autorius Rene Hubner
Kalba Anglų k.
Leidimo metai 2009 m.
Puslapių skč. 102 psl.
Viršelis Minkštas viršelis
ISBN 9781604564518

Advanced Ta-Based Diffusion Barriers for Cu Interconnects

Advanced Ta-Based Diffusion Barriers for Cu Interconnects by Rene Hubner.

Published by Nova Science Publishers, (2008), Paperback, 102 pages.

Topics: Electrodiffusion, Integrated circuits, Interconnects (Integrated circuit technology), Diffusion.

Book cover of: Advanced Ta-Based Diffusion Barriers for Cu Interconnects. By: Rene Hubner, René Hübner

Advanced Ta-Based Diffusion Barriers ...

Cena regularna 219,00 zł
Cena sprzedaży 219,00 zł Cena regularna 228,00 zł